Çin’in en başarılı litografi tarayıcı üreticisi olan Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), çeşitli kaynaklardan gelen bilgilere göre şirketlerin 28nm sürecinde çip üretmesine olanak tanıyan ilk tarayıcısını üretmeyi başardı. İlk litografi ekipmanlarının yıl bitmeden önce teslim edilmesi planlanıyor.
SMEE için SSA/800-10W tarayıcısı bir atılım niteliği taşıyor zira şirketin bugün sahip olduğu en gelişmiş tarayıcı yalnızca 90nm çiplerin üretiminde kullanılabiliyor. 28nm litografi ekipmanları zamanla Çinli yonga üreticileri tarafından tedarik edilecek, böylelikle şirket bazı olgun üretim süreçleri için yerli ekipmanlara güvenmeye başlayacak.
Yıllardır dile getirdiğimiz üzere, Çin yarı iletken sektöründe kendi kendine yetebilecek düzeye gelmek, yabancı teknolojilere olan bağımlılığını azaltmak amacıyla sayısız adım atıyor. SMEE’nin son hamlesi oldukça önemli. Ancak şirketin bu tarayıcıyı kitlesel miktarlarda üretip üretemeyeceği bilinmiyor: Üreticiler şu anlık ASML, Canon ve Nikon’un makinelerine güvenmeye devam ediyor.
ABD hükümetinin son ihracat düzenlemeleri, Çinli yonga üreticilerinin 14nm/16nm boyutlarının altındaki yongalar, 127’den fazla aktif katmana sahip 3D NAND yongalar ve 18nm’den küçük yarı aralıklı DRAM devreleri üretmek için gerekli teknolojilere erişimini engelliyor. Hollanda, Japonya ve Tayvan’ın bu sonbaharın başlarında yürürlüğe koyduğu kısıtlamalar, SMIC ve YMTC gibi Çinli firmaları gelişmiş araçlardan uzaklaştırdı.
Sonuç olarak Çin, çip üreticilerinin 14nm gibi süreç teknolojilerinde çip üretebilmelerini sağlamak için bile dış kaynaklara ihtiyaç duyuyor. SMEE’nin 28nm kapasiteli SSA/800-10W tarayıcısı ise ilerleme yolunda önemli bir kilometre taşı.
